미국의 중국 화웨이에 대한 칩 공급 제한조치가 중국의 자체 생산기술 확보를 앞당기는 계기로 작용할 가능성이 큰 것으로 지적되고 있다.
중국의 기술 전문매체 글로벌 타임스는 12일 획기적으로 발전시킨 새로운 유형의 5nm(나노미터, 1nm는 10억분의 1m) 레이저 리소그래피 기술을 독자적으로 개발, 미국의 규제를 무력화시킬 수 있는 토대를 마련했다고 보도했다.
중국 과학원(Sinano) 산하 소주 나노 테크 및 나노 바이오닉스는 국립 나노과학기술센터와 함께 초 고정밀 레이저 리소그래피 공정 기술에 획기적인 진전을 이뤘다며 '새 기술은 레이저 직접 쓰기에 있어 존재하는 제약조건을 뛰어넘어 나노 수준에서 처리 할 수 있게 됐다'고 발표했다.
초정밀 가공 기술은 새로운 유형의 3층막 구조로 높은 정밀도와 함께 대량생산 가능성의 길을 개척한 것으로 한 시간에 최대 50만 개의 특수 나노 전극을 생산하는 것이 가능하다고 알려졌다.
연구 결과는 미국 화학협회의 나노 레터(Nano Letters)에 게재됐으며 반도체, 광자 칩, 마이크로 전자 기계 시스템 등 광범위한 분야에 응용될 수 있다고 지적했다. 업계 분석가인 시앙 리강은(Xiang Ligang) 중국의 이소그래피 기계 제조에 대한 이론적 기초가 될 것으로 기대한다고 말했다.
다만 그는 “중국이 선진적 서양의 공급업체, 특히 지난해 7nm 리소그래피 장비를 공급한 ASML과의 격차를 좁히는 데는 수년이 걸릴 수 있다”라며 “네덜란드 회사가 리소그래피 장비 제작의 핵심 기술을 독점함으로써 중국 기업의 빠른 추적에 장애가 되고 있다”라고 덧붙였다.
업계 관측통들은 가장 중요한 문제는 투자가 뒤따라야 하지만 수익 회수가 느린 관계로 충분한 자본이 투입되기 어려운 것도 문제라고 지적했다. 연구소 수준의 기술을 생산현장에 도입하기 위해서는 제조사들과의 협력이 필수적이지만 수십억 위안을 투입해도 언제 회수가 가능할지 불투명하다는 것이다.
중국 기업들은 이러한 위험을 감수하기 어려운 상황이라고 한다. 그럼에도 불구하고 중국은 전 세계 반도체 수요의 3분의 1을 차지하고 있고 화웨이, ZTE 등에 대한 미국의 첨단기술 봉쇄조치는 기술자립에 대한 시급함을 깨닫게 하고 있다는 주장이다.
