◆…삼성전자 로고. [사진=로이터통신]
서울신문 단독 보도에 따르면, 송재혁 삼성전자 디바이스솔루션(DS)부문 최고기술책임자(CTO)는 최근 반도체연구소 경영현황설명회에서 "삼성전자 주가가 현재 어려운 상황에 직면했지만, 1년이 지나면 회복할 수 있을 것"이라고 자신감을 드러냈다. 그는 이어 "차세대 D램과 낸드플래시 기술 개발이 목표했던 시간표에 맞춰 차질 없이 진행되고 있다"고 밝혔다.
송 CTO는 설명회에서 차세대 반도체 기술의 주요 사례로 '10나노미터(㎚) 이하 D램'의 기반 기술인 '저온 정션'과 '본딩' 기술을 언급했다. 이 기술들은 기존 D램 구조의 한계를 극복하기 위해 도입된 새로운 구조(VCT) 개발 과정에서 핵심적 역할을 한다. 특히, 저온 정션 기술은 높은 온도로 인해 기존 층이 손상될 가능성을 줄이는 데 유리하며, 본딩 기술은 셀을 수직으로 쌓아 용량을 높이는 데 필수적이다.
또한 낸드플래시 기술에 대해서도 송 CTO는 "차세대 낸드 제품인 V10 개발이 성능과 일정 목표를 준수하며 진행 중"이라고 자신했다. 낸드는 인공지능(AI) 연산 수요가 증가하며 주목받고 있는 분야다. 하지만 최근 SK하이닉스가 300단대 낸드 제품을 업계 최초로 양산하며 삼성전자와의 기술 격차를 좁히는 등 경쟁이 심화되고 있다.
삼성전자는 최근 회사 안팎에서 위기론이 커지는 가운데 주가 하락세가 지속돼 내부적으로도 부담을 안고 있다. 삼성전자 주가는 이달 14일 4만9900원까지 하락하며 '4만전자'로 기록되었지만, 다음 날 5만 원대를 회복했다. 이러한 상황에서 송 CTO의 발언은 기술력에 기반한 성장 가능성을 강조하며 임직원들의 사기를 높이는 데 초점이 맞춰진 것으로 보인다.
이재용 회장은 지난 25일 열린 재판에서 "삼성의 미래에 대한 우려가 크다는 점을 잘 알고 있다"며 "어려운 상황을 반드시 극복하고 국민의 신뢰를 받는 삼성으로 거듭나겠다"고 의지를 표명했다. 이에 따라 삼성전자는 이번 인사를 통해 반도체 부문의 대대적인 쇄신과 함께 차세대 기술 경쟁력을 강화하는 데 집중할 것으로 보인다.
삼성전자는 인사와 조직 개편을 마친 후 12월 중순 글로벌 전략회의를 열어 내년 사업 계획을 구체적으로 논의할 예정이다.
