¾ÖÇÃÀÇ ¾ÆÀÌÆù¿ë ÇÁ·Î¼¼¼ ¼öŹ »ý»ê¾÷üÀÎ ´ë¸¸ÀÇ TSMC°¡ ÄÚ¾î ¼³°è ±â¾÷ ARM°ú 7nm(³ª³ë¹ÌÅÍ) Ĩ¼Â »ý»êÀ» Çù·ÂÅ°·Î ÇÔ¿¡ µû¶ó »ï¼ºÀüÀÚÀÇ AP »ç¾÷¿¡µµ ºÒ¶ËÀÌ Æ¥ ¿ì·Á°¡ ³ô¾ÆÁ³´Ù.
¿µ±¹ÀÇ ´õ ·¹Áö½ºÅÍ(the register)´Â ´ë¸¸ÀÇ TSMC°¡ ÇÁ·Î¼¼¼ ¼³°è¾÷üÀÎ ARM°ú 7nm(1nm´Â 10¾ïºÐÀÇ1m) ÇÉÆê °øÁ¤À» Àû¿ëÇÑ Ä¨ÀÇ Çö½Çȸ¦ À§ÇØ Çù·ÂÀ» °ÈÇß´Ù°í 15ÀÏ(ÇöÁö½Ã°£) º¸µµÇß´Ù.
ÀÌ¿¡ ´ëÇØ TSMC´Â ¡°¼¼°è ÃÖ´ëÀÇ Àü¿ë ¹ÝµµÃ¼ ÆÄ¿îµå¸®¿¡¼ ¿£ºñµð¾Æ, AMD, Ä÷ÄÄ, ¾ÖÇÃ, ¸¶º§, ºê·ÎµåÄÄ°ú °°Àº ±â¾÷µéÀÌ ¿ä±¸Çϴ ĨÀ» ¾ç»êÇÒ ¿¹Á¤¡±À̶ó¸ç ¡°7nm Ĩ¼ÂÀº ¸ð¹ÙÀÏ¿ëÀ» ³Ñ¾î Â÷¼¼´ë ³×Æ®¿öÅ©¿Í µ¥ÀÌÅÍ ¼¾ÅÍ¿¡µµ °ø±ÞÇÒ °Í¡±À̶ó°í ¸»Çß´Ù.
¶ÇÇÑ ¿ì¸®°¡ ¼ö³â°£ ±â´Ù·Á ¿Â ÀúÀü·Â °í¼º´É SoC(½Ã½ºÅÛ-¿Â-Ĩ)¿¡ ´ëÇÑ ÁýÁßÀû ¿¬±¸°³¹ßÀ» ÅëÇØ Çö½Çȸ¦ ¾Õ´ç±æ °èȹÀ̶ó°í µ¡ºÙ¿´´Ù.
ARMÀº ÈÞ´ëÆù°ú ´ëºÎºÐÀÇ À̵¿¿ë ´Ü¸»±â¿¡ žÀçµÈ ÇÁ·Î¼¼¼ ÄÚ¾î ´ëºÎºÐÀ» ¼³°èÇÑ È¸»ç·Î À̹ø Çù·ÂÀ» °è±â·Î TSMC°¡ ARM ±â¹ÝÀÇ Ä¨¼ÂÀ» ´ëºÎºÐ »ý»êÇÒ ¼ö ÀÖÀ» °ÍÀ̶ó´Â ÃßÃøÀº °¡´ÉÇÏ´Ù.
´Ù¸¸ TSMC¿ÍÀÇ Çù¾÷ÀÌ SoC Àüü¸¦ ARMÀÌ ¼³°èÇÑ´Ù´Â °ÍÀº ¾Æ´Ï°í 7nm °øÁ¤À» Àû¿ëÇÒ ¼ö ÀÖ´Â ÄÚ¾î °³¹ßÀ» ¾Õ´ç±èÀ¸·Î½á ÀÚ»çÀÇ ¼³°èµµ¸éÀ» ÀÌ¿ëÇÏ´Â ¹ÙÀ̾î(»ï¼º µî)µéÀÇ ±¸¸Å·ÂÀ» ³ôÀÌ·Á ÇÑ´Ù´Â Çؼ®ÀÌ´Ù.
³»¿ë¿¡ ´ëÇØ Àß ¾Ë°í ÀÖ´Â ¼Ò½ÄÅëµé¿¡ µû¸£¸é TSMC´Â 7nm°øÁ¤À» ±¸ÇöÇϴµ¥ ½Å±â¼úÀÎ EUV(±ØÀڿܼ±, Extreme Ultraviolet Lithography)°¡ ¾Æ´Ñ ¸ÖƼ-ÆÐÅÍ´× ¸®¼Ò±×·¡ÇÇ(multi-patterning lithography, ±ØÈ÷ ¹Ì¼¼ÇÏ°í º¹ÀâÇÑ ÀüÀÚȸ·Î¸¦ ¹ÝµµÃ¼ ±âÆÇ¿¡ ±×·Á ÁýÀûȸ·Î¸¦ ¸¸µå´Â) ±â¼úÀ» »ç¿ëÇÒ °¡´É¼ºÀÌ ³ô´Ù°í ÇÑ´Ù.
ÇöÀç Ĩ Á¦Á¶¾÷üµéÀº ¾×ħ ³ë±¤(·»Áî¿Í ¿þÀÌÆÛ Ç¥¸é »çÀÌÀÇ °ø°£À» ±¼Àý·üÀÌ Å« ¾×üÀÇ ¸ÅÁú·Î ´ëüÇÏ¿© Æ÷Å丮½î±×·¡ÇÇÀÇ ºÐÇØ´ÉÀ» Áõ°¡½ÃÅ°´Â ±â¼ú)À¸·Î ºÒ¸®´Â Æ÷Åä·¹Áö½ºÆ®(ȸ·ÎÆÐÅÏ Çü¼ºÀ» À§ÇØ ½Ç¸®ÄÜ ¿þÀÌÆÛ µîÀÇ À§¿¡ °¨±¤¼º ¼öÁö¸¦ µµÆ÷ÇÏ´Â ¹æ½Ä)¸¦ »ç¿ëÇÏ°í ÀÖ´Ù.
º¸µµ¿¡ ÀÇÇϸé 2017³â±îÁö TSMC°¡ 7nm °øÁ¤¿¡¼ »ý»êÇÒ ¼ö Àִ Ĩ¼ÂÀº ¼Ò·®¿¡ ±×Ä¥ Àü¸ÁÀÌ´Ù. TSMC´Â ¾ÆÁ÷ 10nm °øÁ¤µµ Âø¼öÇÏÁö ¸øÇÑ »óÅ·Π¿ÃÇØ ¸»À̳ª µÅ¾ß ¸ð½ÀÀ» µå·¯³¾ ¼ö ÀÖÀ» °ÍÀ¸·Î ¿¹»óµÈ´Ù.
10nm °øÁ¤Àº 7nm °øÁ¤À¸·Î À̵¿Çϴ ¡°Ë´Ù¸®·Î 10nm¿¡ ¼º°øÀûÀ¸·Î ¾ÈÂøÇÒ °æ¿ì °ð ¹Ù·Î 7nm Ĩ¼ÂÀÇ »ý»ê¿¡ Âø¼öÇÒ °ÍÀ̶ó´Â ¼³¸íÀÌ´Ù.
ÇÑÆí IBMÀº Áö³ÇØ 7¿ù 7nm °øÁ¤À» Àû¿ëÇÏ°Ú´Ù°í ¹ßÇ¥ÇßÁö¸¸ À̸¦ Àû¿ëÇÑ Á¦Ç°Àº ¾ÆÁ÷ ½ÃÀå¿¡ ¼±º¸ÀÌÁö ¾Ê°í ÀÖÀ¸¸ç ¹ÝµµÃ¼ ¾÷°èÀÇ ´ëºÎ¶ó ÇÒ ¼ö ÀÖ´Â ÀÎÅÚÁ¶Â÷ 2017³â ÇϹݱâºÎÅÍ 10nm Á¦Ç°ÀÇ »ý»ê¿¡ µé¾î°£´Ù.
ÀÎÅÚÀÇ 10nm °øÁ¤ Á¦Ç°ÀÌ ºü¸¦±î? ¾Æ´Ï¸é TSMCÀÇ 7nm Á¦Ç°ÀÌ ¸ÕÀú ³ª¿Ã±î? ¾Æ´Ï¸é »ï¼ºÀüÀÚ°¡ ´õ ºü¸¦±î?
¹Ì¼¼°øÁ¤ÀÇ °íµµÈ¸¦ µÑ·¯½Ñ ¾÷°èÀÇ °æÀïÀº ĨÀÇ Å©±â¿Í È¿À²¼º, ±×¸®°í °í¼º´ÉÀ» ±¸ÇöÇϱâ À§ÇÑ ½Î¿ò°ú µ¿½Ã¿¡ ±â¼úÀû ¿ìÀ§¼ºÀÇ Ã´µµÀÎ ±î´ß¿¡ »ó´çÈ÷ Áß¿äÇÑ Àǹ̸¦ °¡Áú ¼ö¹Û¿¡ ¾ø´Ù.
ƯÈ÷ TSMC¿Í ARMÀÇ 7nm ±â¼ú Çù·ÂÀº AP(¾ÖÇø®ÄÉÀ̼ÇÇÁ·Î¼¼¼) »ç¾÷À» °ÈÇÏ°í ÀÖ´Â »ï¼ºÀüÀÚ¿¡°Ô´Â À§±â°¡ µÉ °¡´É¼ºµµ ¹èÁ¦Çϱâ Èûµé´Ù.
»ï¼ºÀüÀÚ´Â ¾ÖÇÃÀÇ A9(¾ÆÀÌÆù6S¿ë) Ĩ¼ÂÀ» µÎ°í TSMC¿Í °æÀïÇÑ ³¡¿¡ °øµ¿»ý»ê ÇÒ ¼ö ÀÖ¾úÁö¸¸ ¿Ã°¡À» Ãâ½Ã ¿¹Á¤ÀÎ ¾ÆÀÌÆù7¿ë A10ÇÁ·Î¼¼¼´Â TSMC¿¡ ¿ÏÀüÈ÷ ³Ñ°ÜÁØ °ÍÀ¸·Î ¾Ë·ÁÁö°í ÀÖ´Ù.
¹Ì¼¼°øÁ¤¿¡ ÀÖ¾î 16nm °øÁ¤ÀÌ ÁÖ·ÂÀÎ TSMC´Â 14nm¸¦ ÁÖ·ÂÀ¸·Î ÇÏ°í ÀÖ´Â »ï¼ºÀüÀÚ¿¡ ´Ù¼Ò µÚÁø °ÍÀº »ç½ÇÀÌÁö¸¸ 10nm°øÁ¤Àº »çÁ¤ÀÌ ´Ù¸£´Ù. »ï¼ºÀüÀÚ´Â ¿Ã ¿¬¸», TSMC´Â À̺¸´Ù ¾Õ¼± ¿À´Â 6¿ùºÎÅÍ ¾ç»êÀ» ½ÃÀÛÇÒ ¿¹Á¤À̱⠶§¹®ÀÌ´Ù.
ƯÈ÷ À̹ø ARM°úÀÇ ÇùÁ¶ ¾Æ·¡ 7nm±îÁö ¼º°øÇÑ´Ù¸é µ¿ÀÏÇÑ ARM Äھ ÀÌ¿ëÇÑ´Ù°í´Â ÇÏÁö¸¸ »ï¼ºÀüÀÚ¿¡°Ô À¯¸®ÇÑ »óȲÀ» ±â´ëÇϱâ´Â ¾î·Á¿ö º¸ÀδÙ.