»ï¼ºÀüÀÚ¿Í ÆÄ¿îµå¸® °æÀïÀ» ¹úÀÌ°í ÀÖ´Â ´ë¸¸ TSMC°¡ 5nm °øÁ¤ Á¦Ç° ¾ç»ê¿¡ À̾î 2nm °øÁ¤ °³¹ß¿¡µµ º»°ÝÀûÀ¸·Î Âø¼öÇß´Ù.
IT Àü¹® ¸Åü ÀÌÄ÷¿À¼Ç(equalocean)Àº TSMC ºÎȸÀå°ú ÀÎÅͺ並 ÅëÇØ 8õ¸íÀÇ ¿£Áö´Ï¾î¿Í ÇÔ²² 2nm(³ª³ë¹ÌÅÍ, 1nm´Â 10¾ïºÐÀÇ 1m) °øÁ¤ Ĩ °³¹ß°ú ÇÔ²² »õ·Î¿î Á¦Ç°À» »ý»êÇÒ ¼ö ÀÖ´Â °øÀåÀ» ¿î¿µÇÒ °èȹÀ̶ó°í 26ÀÏ º¸µµÇß´Ù.
¸¹Àº ÆÄ¿îµå¸® ȸ»çµéÀÌ 7nm °øÁ¤ ±Øº¹¿¡ ³ë·ÂÇÏ°í ÀÖÁö¸¸ ´ë¸¸ TSMC´Â ¾Õ¼± ¹Ì¼¼°øÁ¤ ±â¼ú°ú »ý»ê±â¼ú·Î 5nm ¾ç»ê¿¡ À̾î 2nm °øÁ¤ °³¹ß°ú ´ë·®»ý»êÀ» À§ÇÑ Áغñ¿¡ µé¾î°£ °ÍÀÌ´Ù.
26ÀÏ °³¸·ÇÑ TSMC ±â¼ú Æ÷·³¿¡¼ ȸ»ç ´ëÇ¥´Â 5nm, 4nm¿¡ À̾î 3nm °øÁ¤ ÁøÇà »óȲ°ú ÇÔ²² ±¸Ã¼ÀûÀ¸·Î ¹àÈ÷Áö ¾Ê¾Ò´ø 2nm °øÁ¤À» À§ÇÑ R&D(¿¬±¸°³¹ß) ¼¾ÅÍ ±¸Ãß°èȹÀ» °ø°³Çß´Ù.
º¸µµ¿¡ µû¸£¸é ÀÌ ¿¬±¸°³¹ß ¼¾ÅÍ¿¡¼´Â 8õ¸íÀÇ ±â¼úÀÚµéÀÌ 2nm °øÁ¤À» °³¹ßÇÏ°í ¾ç»ê ±â¼úÀ» È®º¸ÇÒ °ÍÀ̶ó°í ÇÑ´Ù. ±×·³¿¡µµ ȸ»ç´Â R&D¼¾ÅÍÀÇ Á¤È®ÇÑ À§Ä¡³ª ±Ô¸ð µî¿¡ ´ëÇØ °ø°³¸¦ ²¨¸®°í ÀÖ´Ù.
´Ù¸¸ ¾ó¸¶ Àü TSMC´Â ´ë¸¸ ŸÀ̳ÀÇ ³ÄÉ(Nanke) »ê¾÷´ÜÁö¿¡ ÀÖ´Â ¸®Æ² ÈÞÁî(Littelfuse) Æí±¤ ±¤ °øÀåÀ» ÀμöÇ߱⠶§¹®¿¡ À̸¦ ÀÌ¿ëÇÒ °ÍÀ̶ó´Â ÃßÃøÀÌ´Ù. TSMC´Â ¹Ð·Áµå´Â ÁÖ¹®À» ¼ÒÈÇÏ°í »õ·Î¿î Á¦Á¶ °øÁ¤ °³¹ßÀ» À§ÇØ ÅõÀÚ¸¦ °ÅµìÇÏ°í ÀÖ´Ù.
ÇöÀç »ï¼ºÀ̵ç TSMC µç ¹ÝµµÃ¼ °øÁ¤Àº 3nm ¼öÁØÀ¸·Î ±âº»ÀûÀÎ ±â¼ú°³¹ßÀº ¿Ï·áµÇ°í °øÀå°Ç¼³¸¸ ³²Àº »óÅ´Ù. °øÀå °Ç¼³Àº ¿¬±¸°³¹ß¿¡ ºñÇØ ¸¹Àº ½Ã°£ÀÌ °É¸®´Â ÀÛ¾÷Àº ¾Æ´Ï±â ¶§¹®¿¡ ¾ç»êÀº ½Ã°£¹®Á¦¶ó ÇÒ ¼ö ÀÖ´Ù.
2nm °øÁ¤Àº 3nm °øÁ¤À» ¾÷±×·¹À̵å ÇÏ´Â ¼öÁØÀ¸·Î »ï¼ºÀüÀÚ´Â 3nm °øÁ¤¿¡µµ GAA ¼¶ó¿îµå °ÔÀÌÆ® °øÁ¤À» µµÀÔÇÏ·Á ÇÏ´Â ¹Ý¸é TSMC´Â 2nm¿¡¸¸ GAA °øÁ¤À» µµÀÔÇÒ ¿¹Á¤ÀÌ´Ù. TSMC´Â ¾Õ¼ 2nm °øÁ¤ ±â¼úÀÇ °³¹ßÀÌ ¼øÁ¶·Ó°Ô ÁøÇàµÇ°í ÀÖ´Ù¸ç ȹ±âÀûÀÎ ±â¼úÀû ÁøÀüÀÌ ÀÌ·ïÁ³À¸¸ç GAA °øÁ¤°³¹ßµµ ¼øÁ¶·Ó°Ô ÀÌÇàµÇ°í ÀÖ´Ù°í ÁÖÀåÇß´Ù.
´Ù¸¸ TSMCÀÇ 2nm °øÁ¤ °³¹ßÀº ¿ÏÀüÈ÷ ³¡³ °ÍÀÌ ¾Æ´Ï¶ó ÀÌÁ¦ ¸· ½ÃÀÛµÈ ´Ü°è·Î ¿©ÀüÈ÷ ¸¹Àº ÀÚ¿øÀ» ÅõÀÚÇØ¾ß ÇÕ´Ï´Ù. 8õ¸í ÀÌ»óÀÇ ¿£Áö´Ï¾î´Â ÇÊ¿äÁ¶°Ç Áß Çϳª°í ÀÌ´Â TSMC°¡ ¹Ì·¡ÀÇ ±â¼ú¿¡¼ ¼±µÎ¸¦ À¯ÁöÇÏ·Á´Â ÀÇÁö¸¦ ³ªÅ¸³½´Ù°í ÇÒ ¼ö ÀÖ´Ù.