◆…사진제공:삼성전자
삼성전자가 23일 경기도 화성캠퍼스에서 '삼성전자 화성 EUV 라인 기공식'을 갖고 본격적인 생산라인 건설에 들어갔다.
내년 하반기 완공 후 시험생산을 거쳐 2020년부터 본격 양산을 시작할 예정으로 미세공정 한계 극복에 필수적인 EUV(극자외선)장비를 도입, 미세공정 기술 리더십을 유지하는 핵심 역할을 하게 된다.
반도체 산업은 최근 한 자리 수 나노 단위까지 미세화가 진행됨에 따라 보다 세밀한 회로를 구현하기 위해 기존 ArF(불화아르곤) 광원보다 파장이 짧은 EUV 장비의 도입이 불가피하게 되었다.
EUV 기술이 본격 상용화되면 반도체의 성능과 전력효율 향상은 물론 회로 형성을 위한 공정수도 줄어들어 획기적인 생산성 향상도 기대할 수 있다. 화성 EUV라인은 모바일/서버/네트워크/HPC 등 고성능·저전력 요구에 대한 적기 대응과 7나노 이하 파운드리 미세공정 시장을 주도하게 될 것으로 보인다.
초기 투자규모는 건설비용 포함 2020년까지 60억 달러(6조4794억 원) 수준으로 라인 가동 이후 시황에 따라 추가 투자도 계획하고 있다. 이에 화성시는 첨단 반도체 산업의 메카로서의 입지를 확고히 하게 됐다.
한편 삼성전자는 파운드리 7나노 공정부터 EUV 기술을 적용하기 위한 지속적인 연구개발과 함께 글로벌 고객과도 이를 활용한 차세대 반도체 칩 개발에 협력하고 있다.
