¹Ì±¹ÀÇ ¹ÝµµÃ¼ ±Ý¼ö Á¶Ä¡·Î ÀÎÇØ ¾î·Á¿ò¿¡ óÇÑ Áß±¹ ¹ÝµµÃ¼ °ü·Ã ±â¾÷µéÀÌ ±â¼ú °³¹ßÀ» º»°ÝÈÇÏ¸é¼ ÇÊ¿äÇÑ ¸ðµç °ÍÀ» ÀÚ±ÞÇÒ ¼ö ÀÖ´Ù´Â °æ°í°¡ ³ª¿Ô´Ù.
È«ÄáÀÇ ¾Æ½Ã¾ÆŸÀÓ½º´Â ¹Ì Á¤Ä¡±ÇÀÌ È¿þÀÌ¿Í SMIC¿¡ ´ëÇÑ ±ÔÁ¦ °È¸¦ ¿ä±¸ÇÏ°í ³ª¼¹Áö¸¸ 7nm(³ª³ë¹ÌÅÍ) Ĩ »ý»êÀ» ¿ÏÀüÈ÷ Â÷´ÜÇϱ⿡´Â ³Ê¹« ´Ê¾úÀ¸¸ç Á¦Àç 1ÁÖ³âÀ» ¾ÕµÐ Çö »óȲ¿¡¼ ¼öÃâ ÅëÁ¦°¡ ½ÇÆÐÇÏ°í ÀÖ´Ù´Â °ÍÀÌ ¸Å¿ì ºÐ¸íÇÏ´Ù°í º¸µµÇß´Ù.
ÀÌ´Â È¿þÀÌ°¡ 5G ½º¸¶Æ®Æù ¸ÞÀÌÆ®60À» Ãâ½ÃÇÏ¸é¼ ÀÌ¿¡ žÀçµÈ 7nm ÇÁ·Î¼¼¼°¡ Áß±¹ ÆÄ¿îµå¸® Á¦Á¶¾÷ü SMIC Á¦Ç°À̶ó´Â »ç½ÇÀÌ È®ÀεǾú±â ¶§¹®ÀÌ´Ù.
ÀÌ¿Í °ü·Ã ¸¶ÀÌŬ ¸ÆÄÝ ÇÏ¿ø ¿Ü±³À§¿øÀå, ¸¶ÀÌÅ© ·ÎÀú½º ±º»çÀ§¿øÀå, ij½Ã ¸Æ¸ð¸®½º ·ÎÀú½º ¿¡³ÊÁö·»ó¾÷À§¿øÀå, ¸¶ÀÌÅ© °¶·¯°Å ÇÏ¿øÀÇ¿ø µîÀÌ ¾Ë¶õ ¿¡½ºÅ׺£Áî »ê¾÷º¸¾È±¹(BIS) Â÷°ü¿¡°Ô È¿þÀÌ °ü·Ã ¿ì·Á¸¦ Ç¥ÇÏ´Â ¼ÇÑÀ» Áö³ 15ÀÏ °øµ¿À¸·Î ¹ß¼ÛÇß´Ù.
±×µéÀº "¹ÝµµÃ¼ °ø±Þ¸Á Àü¹Ý¿¡ °ÉÃÄ ¹Ì±¹»ê ±â¼úÀÌ ³Î¸® »ç¿ëµÇ±â ¶§¹®¿¡ ÀÌ´Â ¹Ì±¹ÀÇ ¼öÃâ ±ÔÁ¦ À§¹ÝÀ» ½Ã»çÇÑ´Ù"¶ó¸ç "»ê¾÷¾Èº¸±¹ÀÌ Áß±¹¿¡ ´ëÇÑ ¼öÃâÅëÁ¦±ÔÁ¤À» È¿°úÀûÀ¸·Î ¹ßÈÖÇÏ°í ½ÃÇàÇÏÁö ¸øÇÏ´Â °Í¿¡ ´ëÇØ ¸Å¿ì °ï¶õÇÏ°í ´çȤ½º·´´Ù"¶ó°í Àû¾ú´Ù.
À̾î È¿þÀÌ¿Í SMIC¿¡ ´ëÇØ ¼öÃâÇÑ ¿Ü±¹ ¼öÀÔ¾÷ü ÀÓ¿øµé¿¡ ´ëÇؼµµ Àü¸é Â÷´Ü Á¦Àç¿Í ÀÓ¿øÁø¿¡ ´ëÇÑ Çü»ç °í¹ßÀ» ±Ç°íÇϸç 2³â µ¿¾È BIS ±ÔÁ¤ÀÇ ÇãÁ¡¿¡ ´ëÇØ ÁöÀûÇßÁö¸¸, °á±¹ ±â¼ú Á¦ÇÑ ½Ãµµ°¡ ¼º°øÇÏÁö ¸øÇßÀ½À» µå·¯³Â´Ù"°í ÁöÀûÇß´Ù.
¹ÝµµÃ¼ °ø±Þ¸Á Àü¹® ¸®¼Ä¡ ¹× ÄÁ¼³Æà ȸ»çÀÎ ¼¼¹Ì¾Ö³Î¸®½Ã½ºÀÇ µô·± ÆÄÅÚÀº "´ÙÀ½ ´Þ 7ÀÏ Á¦Àç 1ÁÖ³âÀÌ ´Ù°¡¿À¸é¼ ¼öÃâ ÅëÁ¦°¡ ½ÇÆÐÇÏ°í ÀÖÀ½À» º¸¿©ÁÖ´Â »ç·Ê·Î »ó¹«ºÎ ±ÔÁ¤Àº ¼³Á¤µÈ À庮À» Áß±¹ÀÌ ¶Õ´Â °ÍÀ» ¸·Áö ¸øÇÒ ¼öÁØÀ̶ó´Â °ÍÀ» ÀÔÁõÇÑ´Ù"¶ó°í ¸»Çß´Ù.
±Ùº»ÀûÀ¸·Î EDA(Electronic Design Automation) µµ±¸ÀÇ ¼öÃâ Á¦ÇÑ, ºÒȾƸ£°ï ¾×ħ ³ë±¤(ArF immersion lithography systems) Àåºñ, Æ÷Å丶½ºÅ©, ¸¶½ºÅ© ºí·©Å© ¹× ¸¶½ºÅ© ¶óÀÌÅÍ, ¿¡ÇÇÅýÃ, ½Ä°¢, ÁõÂø, ÀÌ¿Â ÁÖÀÔ, CMP(Chemical Mechanical Planarization), °èÃø Àåºñ ¹× 3D IC ÆÐŰ¡ Àåºñ(Æ÷Åä·¹Áö½ºÆ®, ¿¡Äª °¡½º ¹× ±âŸ ÈÇÐ ¹°Áú), ±âÁ¸ Àåºñ¿¡ ´ëÇÑ ¼ºñ½º µî Àü¸éÀûÀÎ ±ÝÁö°¡ ¿ä±¸µÈ´Ù´Â °ÍÀÌ´Ù.
±×·¯³ª Áß±¹Àº ÀÌ¹Ì ÀÌ·¯ÇÑ ÀåºñµéÀ» ¼öÀÔÇØ ÀÚüÀûÀ¸·Î ¿¡ÇÇÅÃ¼È ¿þÀÌÆÛ¸¦ ¸¸µé±â ½ÃÀÛÇß°í SMIC¸¦ ºñ·ÔÇØ ÃæºÐÈ÷ ÁغñÇÑ ´Ù¸¥ ȸ»çµéÀº À̹ø Á¦Àç¿¡µµ ºÒ±¸ÇÏ°í ÇâÈÄ 2~3³â°£ »ý»êÀÌ ´Ã¾î³ª´Â °ÍÀ» ¸·À» ¼ö ¾ø°Ô µÆ´Ù.
ºñÃà·®ÀÌ ¾ó¸¶³ª µÇ´ÂÁö, Á¤È®ÇÏ°Ô ¾î¶² Àåºñ°¡ Æ÷ÇԵŠÀÖ´ÂÁö È®ÀÎÇÒ ¼ö´Â ¾øÁö¸¸, ÃÖ±Ù ¸î ³â°£ Áß±¹ ±â¾÷µéÀº Àü ¼¼°è ¸ÅÃâ¾×ÀÇ ¾à 25%¸¦ ¹ÝµµÃ¼ ´ë·® »ý»ê¿¡ ÇÊ¿äÇÑ Àåºñ¸¦ ¼öÀÔÇÏ´Â µ¥ »ç¿ëÇÑ °ÍÀ¸·Î ÃßÁ¤µÈ´Ù.
SMIC´Â Áö³ 5¿ù ÀÚ»ç ȨÆäÀÌÁö¿¡ 14nm °øÁ¤¿¡ ´ëÇØ °Ô½ÃÇß´Ù°¡ »èÁ¦ÇÏ¸é¼ ¹Ì±¹ÀÇ Á¦Àç·Î »ý»êÀÌ ¾î·Æ´Ù´Â ºÐ¼®ÀÌ Á¦±âµÇ¾úÀ¸³ª ÇöÀç 7nm Á¦Ç°À» »ý»ê, ±Ù°Å ¾ø´Â ÃßÃøÀ̾úÀ½ÀÌ È®Àεǰí ÀÖ´Ù.
Áö³ÇØ ¸» ¸Þ¸ð¸® Á¦Á¶¾÷ü YMTC°¡ Á¦Àç·Î ¹Ì±¹ Àåºñ¿Í ¿£Áö´Ï¾î¸µ ¼ºñ½º Á¢±ÙÀÌ ²÷±â¸é¼ Á¦2 °øÀå ¿Ï°ø¿¡ ½ÇÆÐÇÑ °ÍÀÌ ´Ù¸¥ ±â¾÷µé¿¡ ±³ÈÆÀÌ µÇ¾úÀ» °ÍÀ¸·Î º¸ÀδÙ.
Áß±¹ ±â¾÷µéÀº EDA¿¡¼ ½Ç¸®ÄÜ ¹× ±âŸ Á¾·ùÀÇ ¿þÀÌÆÛ, ÈÇÐ ¹°Áú ¹× ±âŸ Àç·á¿¡ À̸£±â±îÁö ¹ÝµµÃ¼ »ý»ê¿¡ ÇÊ¿äÇÑ ¸ðµç °Í°ú Ĩ Á¦Á¶ Àåºñ, ºÎÇ° Àüü¸¦ ¸¸µé°í Àְųª ¸¸µé±â À§ÇØ ³ë·ÂÇÏ´Â ÁßÀ¸·Î ¼öÀÔ Á¦Ç°º¸´Ù Ç°ÁúÀÌ ³·°í ¼ö¿ä ÀϺθ¸ ÃæÁ·½Ãų ¼ö ÀÖÁö¸¸, Ç°Áú°ú ¼ö·®Àº ¸Å³â Çâ»óµÇ°í ÀÖ´Ù.
Áö³ 8¿ù ÃÊ ¿ì½Ã¿¡¼ ¿¸° 'Áß±¹ ¹ÝµµÃ¼ Àåºñ ¿¬·Ê ȸÀÇ ¹× ¹ÝµµÃ¼ Àåºñ ¹× ÇÙ½É ºÎÇ° Àü½Ãȸ'¿¡ Áß±¹ ¹ÝµµÃ¼ Àåºñ¾÷ü 600¿© °÷ÀÌ Âü¼®Çß´Ù. ÀÌ ÀÚ¸®¿¡¼ ÀçÅ° ¸° ÈËÈÄ ¾¥Àú¿ì ¹ÝµµÃ¼±â¼ú ÃÖ°í°æ¿µÀÚ(CEO)´Â "¹Ì±¹ÀÇ Á¦Àç°¡ ¾ø¾ú´Ù¸é ´Ù¸¥ »ç¶÷µéÀ» À§ÇÑ Á¦Á¶¾÷, ¼ø¼öÇÑ Ä¨ Àåºñ ±¸¸ÅÀڷμÀÇ ±¸Å¸¦ À̾À» °Í"À̶ó¸ç "Àü¸é Â÷´Ü Á¦Àç°¡ ³»·ÁÁö¸é ¿Ü±¹ °ø±Þ¾÷üµéÀº Áß±¹ ½ÃÀå Àüü¸¦ ÀÒÀ» ¼öµµ ÀÖ´Ù"¶ó°í ¸»Çß´Ù.
¿£ºñµð¾ÆÀÇ Á¨½¼ Ȳ ÃÖ°í°æ¿µÀÚ¿Í ASMLÀÇ ÇÇÅÍ ¿þ´×Å© ÃÖ°í°æ¿µÀÚ´Â ¹Ì±¹°ú À¯·´ Á¤ºÎ¿¡ Áß±¹ÀεéÀÌ »ì ¼ö ¾ø´Â °ÍÀº ¹«¾ùÀÌµç ½º½º·Î ¸¸µé °ÍÀ̶ó°í °æ°íÇß´Ù. ¿þ´×Å©´Â µðÁöŸÀÓ½º¿ÍÀÇ ÀÎÅͺ信¼ ¼¹æ Á¤ºÎµéÀÇ Á¦ÇÑÀûÀÎ Á¤Ã¥ÀÌ Áß±¹À¸·Î ÇÏ¿©±Ý °íµµÀÇ Çõ½ÅÀ» °¿äÇÏ°í ÀÖ´Ù°í ¸»Çß´Ù.