¿ÃÇØ 1ºÐ±â ¼¼°è ½Ç¸®ÄÜ ¿þÀÌÆÛ ¸éÀû ÃâÇÏ·®ÀÌ Àü³â µ¿±â ´ëºñ »ó½ÂÇÑ °ÍÀ¸·Î ³ªÅ¸³ª ¹ÝµµÃ¼ °æ±â ȰȲÀÌ Áö¼ÓµÉ °ÍÀ¸·Î º¸ÀδÙ.
±¹Á¦¹ÝµµÃ¼ÀåºñÀç·áÇùȸ(SEMI)´Â ½Ç¸®ÄÜ ¿þÀÌÆÛ »ê¾÷ ºÐ±âº° º¸°í¼¿¡¼ ¿ÃÇØ 1ºÐ±â ¼¼°è ½Ç¸®ÄÜ ¿þÀÌÆÛ ¸éÀû ÃâÇÏ·®Àº Áö³ÇØ 2012³â 4ºÐ±â¿¡ ºñÇØ 1.6% °¨¼ÒÇÑ °ÍÀ¸·Î ³ªÅ¸³µ´Ù°í 9ÀÏ ¹àÇû´Ù.
¿Ã 1ºÐ±âÀÇ ÃÑ ½Ç¸®ÄÜ ¿þÀÌÆÛ ÃâÇÏ ¸éÀûÀº 21¾ï2800¸¸ Á¦°öÀÎÄ¡·Î Áö³ÇØ 4ºÐ±âÀÇ 21¾ï 6200¸¸ Á¦°öÀÎÄ¡¿¡¼ 1.6% Ç϶ôÇß´Ù. ±×·¯³ª Áö³ÇØ 1ºÐ±â 20¾ï330¸¸ Á¦°öÀÎÄ¡¿¡ ºñÇؼ´Â 4.8% »ó½ÂÇß´Ù.
½Ç¸®ÄÜ ¿þÀÌÆÛ´Â ¹ÝµµÃ¼ÀÇ ±Ù°£ÀÌ µÇ´Â ¼ÒÀç·Î¼ ÄÄÇ»ÅÍ, Åë½Å Á¦Ç°, ¼Òºñ°¡ÀüÀ» Æ÷ÇÔÇÑ °ÅÀÇ ¸ðµç ÀüÀÚÁ¦Ç°ÀÇ Çʼö ºÎÇ°ÀÌ´Ù.
°íµµÀÇ ±â¼úÀÌ ÇÊ¿äÇÑ ¹Ú¸· ¿øÇü µð½ºÅ© ¸ð¾çÀÇ ½Ç¸®ÄÜ ¿þÀÌÆÛ´Â Áö¸§ 1ÀÎÄ¡ºÎÅÍ 12ÀÎÄ¡±îÁö ´Ù¾çÇÑ Å©±â·Î Á¦ÀÛµÇ¸ç ´ëºÎºÐÀÇ ¹ÝµµÃ¼ ¼ÒÀÚ³ª Ĩ Á¦ÀÛÀÇ ±âÆÇÀç·á·Î »ç¿ëµÈ´Ù.
ÇÑÆí ½Ç¸®ÄÜ ¿þÀÌÆÛ »ê¾÷ ºÐ±âº° º¸°í¼¿¡ ÀοëµÇ´Â ¸ðµç µ¥ÀÌÅÍ´Â ¿þÀÌÆÛ Á¦Á¶¾÷üµéÀÌ ÃÖÁ¾¼ÒºñÀڵ鿡°Ô ÃâÇÏÇÏ´Â ¹öÁø Å×½ºÆ® ¿þÀÌÆÛ(virgin test wafer), ¿¡ÇÇÅüÈ(epitaxial) ½Ç¸®ÄÜ ¿þÀÌÆÛ, ³í-Æú¸®½Ãµå(non-polished) ½Ç¸®ÄÜ ¿þÀÌÆÛ, Æú¸®½Ãµå(polished) ½Ç¸®ÄÜ ¿þÀÌÆÛ¸¦ Æ÷ÇÔÇÏ°í ÀÖ´Ù.
È«º´¼· SEMI SMG ȸÀåÀº ¡°´ëü·Î 1ºÐ±â¿¡´Â ÃÑ ½Ç¸®ÄÜ ÃâÇÏ·®ÀÌ Ç϶ô¼¼¸¦ º¸Àδ١±¸ç ¡°´Ù¸¸ ÃÑ ÃâÇÏ·®Àº Àü³â µ¿±â´ëºñ »ó½ÂÇØ ¿ÃÇØ ¹ÝµµÃ¼ »ê¾÷°ú ½Ç¸®ÄÜ »ê¾÷ÀÌ ÇÔ²² ¼ºÀåÇÒ °ÍÀ¸·Î ±â´ëÇÏ°í ÀÖ´Ù¡±°í ¸»Çß´Ù.