대만 TSMC와 미세공정 개발 경쟁을 벌이고 있는 삼성전자가 10나노(nm, 나노미터) 2세대 공정 기반 '8나노 파운드리 공정' 개발을 완료하고 본격적인 양산 준비를 마쳤다.
첨단 파운드리 로드맵 상 EUV(극자외선)가 처음으로 도입될 7나노 직전 공정으로 10나노 2세대 공정 대비 전력효율은 10% 향상된 반면 면적은 10% 축소되어 고성능 프로세서에 적합하다.
지난해 10월 업계 최초로 10나노 제품 양산에 이어 그간 축적한 공정 노하우를 바탕으로 8나노 공정 수율도 빠르게 안정화 시킬 계획이라고 밝혔다. 이번 8나노 공정 개발에도 퀄컴과 협력을 지속하고 있다.
삼성전자는 올해 미국, 한국, 일본에 이어 18일(현지시간) 독일 뮌헨 삼성 파운드리 포럼을 통해 글로벌 고객과 파트너 사를 대상으로 8나노 공정 개발 현황과 공정 로드맵도 발표할 예정이다.
