¹Ì±¹ÀÌ Áß±¹ÀÇ À̵¿Åë½Å Àåºñ¾÷ü ZTE¿Í È¿þÀÌ¿¡ À̾î ÆÄ¿îµå¸® ¾÷ü SMIC±îÁö ±ÔÁ¦ÇÏ·Á´Â ¿òÁ÷ÀÓÀ» º¸ÀÌ¸é¼ Áß±¹µµ º»°ÝÀûÀÎ ±â¼úµ¶¸³ ¿òÁ÷ÀÓÀ» º¸ÀÌ°í ÀÖ´Ù.
±â¼ú Àü¹® ¸Åü ´õÇÁ·±Æ¼¾îÆ÷½ºÆ®(thefrontierpost)´Â ¹Ì±¹ÀÌ ±ÔÁ¦Á¶Ä¡¸¦ Áß±¹ÀÇ Ã·´Ü »ê¾÷ Àüü·Î È®ÀåÇÒ ¿òÁ÷ÀÓÀ» º»°ÝÈ ÇÏ¸é¼ ´ç±¹ÀÇ Àû±ØÀûÀÎ Áö¿ø ¾Æ·¡ ½º½º·Î µ¶¸³ÇÏ·Á´Â ¿òÁ÷ÀÓÀ» º»°ÝÈ ÇÏ°í ÀÖ´Ù°í 14ÀÏ º¸µµÇß´Ù.
±¸Ã¼ÀûÀ¸·Î Áß±¹ÀÇ ÆÄ¿îµå¸® ¾÷ü SMIC¿Í ¸Þ¸ð¸® Á¦Á¶¾÷ü ¿¬Å ¸Þ¸ð¸® Å×Å©³î·ÎÁö(Yangtze Memory Technologies)´Â ¹Ì±¹ÀÌ È¿þÀÌ¿¡ ºÎ°úÇÑ °Í°ú À¯»çÇÑ Á¦À縦 ¹èÁ¦ÇÏÁö ¾Ê°í ÀÖ´Ù°í ¸»ÇÑ ÈÄ ¹Ì±¹ ¹ÝµµÃ¼ Àåºñ ´ë½Å ÀÚ±¹ ±â¾÷ Á¦Ç°À¸·Î ´ëü¸¦ °ËÅäÇÏ°í ÀÖ´Ù°í ÇÑ´Ù.
SMIC´Â Ãֱ٠÷´Ü Á¦Ç°ÀÇ °³¹ß°ú »ý»ê¿¡ ÇÊ¿äÇÑ ÀÚ±Ý 78¾ï ´Þ·¯(9Á¶3õ¾ï ¿ø)À» À¯Ä¡ÇÑ Áß±¹ÀÇ °¡Àå °¡´É¼º ÀÖ´Â ÆÄ¿îµå¸® ¾÷ü Áß ÇϳªÁö¸¸ ¹Ì¼¼°øÁ¤Àº ¹°·Ð »ý»ê±â¼ú ¸é¿¡¼µµ ÷´Ü¿¡¼´Â ¾ÆÁ÷ °Å¸®°¡ ÀÖ´Ù.
Áï »ï¼ºÀüÀÚ¿Í TSMC°¡ 5nm(³ª³ë¹ÌÅÍ, 1nm´Â 10¾ïºÐÀÇ 1m) °øÁ¤ Á¦Ç°À» »ý»êÇϴµ¥ ºñÇØ SMIC´Â ÇÑÂü µÚÁø 14nm Ĩ »ý»ê¿¡ ±×Ä¡°í Àֱ⠶§¹®ÀÌ´Ù. ±×·³¿¡µµ À̸¦ »ç¿ëÇÏ´Â Áß±¹±â¾÷µéÀÌ ¸¹´Ù.
´õ¿íÀÌ ¹Ì±¹ÀÇ È¿þÀÌ¿¡ ´ëÇÑ ±ÔÁ¦°¡ º»°ÝÀûÀ¸·Î ½ÃÀÛµÇ¸é ¼ö¿ä´Â ´õ¿í ´Ã¾î³¯ °¡´É¼ºÀÌ ÀÖ´Ù. ¹®Á¦´Â 14nm °øÁ¤¿¡µµ ¹Ì±¹ÀÌ ±ÔÁ¦ÇÏ´Â ±â¼úÀÌ µé¾î°¡ ÀÖ´Ù´Â Á¡À¸·Î Ĩ ¼³°è¿¡ ÇÊ¿äÇÑ Ä«µ§½º µðÀÚÀÎ ½Ã½ºÅÛ(Cadence Design Systems), ½Ã³ñ½Ã½º(Synopsys), ¿£½Ã½º(Ansys) µî ¼ÒÇÁÆ®¿þ¾î´Â ¹°·Ð ¾îÇöóÀÌµå ¸ÓƼ¸®¾óÁî(Applied Materials), KLA, ASML µî Àåºñµµ ¹Ì±¹ ±â¾÷µé ¼ÒÀ¯´Ù.
µû¶ó¼ ¹Ì±¹ ¼ÒÇÁÆ®¿þ¾î¿Í Çϵå¿þ¾î¸¦ »ç¿ëÇÏ´Â ±â¼ú·Î Á¦Á¶µÈ ĨÀº È¿þÀÌ¿¡ °ø±ÞÇÏÁö ¸øÇÏ°Ô µÈ´Ù. ƯÈ÷ ¹Ì±¹Àº ÃÖ±Ù SMIC°¡ Áß±¹±º°ú Çù·ÂÇÏ°í ÀÖ´Ù´Â ³»¿ëÀ» È긮¸ç ºí·¢¸®½ºÆ®¿¡ ¿Ã¸®°í ±ÔÁ¦ÇÏ·Á´Â ¿òÁ÷ÀÓÀ» º¸ÀÌ°í ÀÖ´Ù.
ÀÌ¿¡ Áß±¹ ´ç±¹°ú ±â¾÷µéÀº ÀÚü ±â¼ú °³¹ßÀÇ Çʿ伺À» Àý°¨ÇÏ°í 2025³â±îÁö ÀÚü »ý»êÇÑ ¹ÝµµÃ¼·Î ÀÚ±¹ ¼ö¿äÀÇ 70%¸¦, 2030³â±îÁö ¿ÏÀüÇÑ ¼öÀÔ´ëü¸¦ ´Þ¼¾Æ°Ú´Ù´Â ¸ñÇ¥¸¦ ¼³Á¤ÇÏ°í ÀÖ´Ù.
À̸¦ À§ÇØ 2014³â ¼ÒÀ§ ºò Æݵå(Áß±¹ ÁýÀû ȸ·Î »ê¾÷ ÅõÀÚ Æݵå)¸¦ Ãâ¹ü½ÃÅ°°í ÀÌ¹Ì 300¾ï ´Þ·¯ ÀÌ»óÀ» Æݵù, Naura, Advanced Micro-Fabrication Equipment, Hwatsing, ACM Research, Mattson Technology ¹× Shanghai Micro Electronics Equipment¿Í °°Àº Àåºñ Á¦Á¶¾÷ü °³¹ß¿¡ Àڱݿ¡ ÅõÀÔÇÏ°í ÀÖ´Ù.
Áß±¹ ¾ð·Ð¿¡ µû¸£¸é ÀÌ·¸°Ô °³¹ßµÈ ÀåºñµéÀº 28nm Ĩ »ý»ê¿¡ 2022³âºÎÅÍ ÅõÀ﵃ °èȹÀ̶ó°í ÇÑ´Ù. ±×·¯³ª ¾¥Àú¿ì ´ëÇб³ ½¬Ä« ÇÏ¿À ±³¼ö´Â ¡°¸ñÇ¥°¡ ³Ê¹« ¾ß½ÉÀû¡±À̶ó¸ç ¡°¸î ³â ¾È¿¡ ±â¼úµ¶¸³Àº ¾î·Á¿ï °Í¡±À̶ó°í ¸»Çß´Ù.
¶ÇÇÑ ¡°Áß±¹ÀÌ 40nm °øÁ¤À» »ý»êÇÑ´Ù¸é °¡´ÉÇÑ ¾ê±â°ÚÁö¸¸ ÇöÀç 5nm °øÁ¤À» µû¶ó°¡·Á¸é ¹Ì±¹¿¡ ´ëÇØ ÀÇÁ¸ÇÏÁö ¾ÊÀ» ¼ö ¾ø´Ù¡±¶ó¸ç ¡°28nm °øÁ¤ Á¦Ç°À» »ý»êÇϴµ¥µµ Áß±¹ÀÌ °ø±ÞÇÒ ¼ö ÀÖ´Â Àåºñ¿Í ±â¼úÀº 20%¿¡ ºÒ°úÇÏ´Ù¡±¶ó°í ºñ°üÀûÀÎ ÀÇ°ßÀ» ÇÇ·ÂÇß´Ù.