¼¼°è ÃÖ´ë ÆÄ¿îµå¸® ¾÷üÀÎ ´ë¸¸ÀÇ TSMC°¡ ÷´Ü ÆÐŰ¡(ÈÄ°øÁ¤) ±â¼úÀ» ÀϺ»¿¡ µµÀÔÀ» °ËÅäÇÏ°í ÀÖ´Ù.
18ÀÏ(ÇöÁö½Ã°¢) ·ÎÀÌÅÍ´Â µÎ ¼Ò½ÄÅëÀ» ÀοëÇØ ÀÌ·± ¼Ò½ÄÀ» ÀüÇϸç TSMC°¡ ÀϺ»¿¡ CoWoS ÆÐŰ¡ ±â¼ú µµÀÔÀ» ³íÀÇÇÏ°í ÀÖ´Ù°í º¸µµÇß´Ù.
CoWoS(Chip-on-Wafer-on-Substrate) ÆÐŰ¡ ±â¼úÀº ¹ÝµµÃ¼ Á¦Á¶¿¡¼ »ç¿ëµÇ´Â ÷´Ü ±â¼ú·Î ¿©·¯ ĨÀ» ÇϳªÀÇ Å« ±âÆÇ À§¿¡ ½×¾Æ ¿Ã¸®´Â ¹æ½ÄÀÌ´Ù. CoWoS´Â ƯÈ÷ °í¼º´É ÄÄÇ»Æðú ´ë¿ë·® µ¥ÀÌÅÍ ¼¾ÅÍ¿Í °°Àº ¾ÖÇø®ÄÉÀ̼ǿ¡¼ À¯¿ëÇϸç, Ĩ °£ÀÇ ¹°¸®Àû °Å¸®¸¦ ÃÖ¼ÒÈÇØ ´õ ¸¹Àº µ¥ÀÌÅÍ Àü¼Û°ú ³·Àº Àü·Â ¼Òºñ¸¦ °¡´ÉÇÏ°Ô ÇÑ´Ù.
ÀáÀçÀû ÅõÀÚ ±Ô¸ð³ª ÀÏÁ¤Àº ¾ÆÁ÷ °áÁ¤µÇÁö ¾Ê¾Ò´Ù°í ¼Ò½ÄÅëÀÌ ÀüÇÑ °¡¿îµ¥, TSMC´Â °ø½ÄÀûÀÎ ³íÆòÀ» °ÅºÎÇß´Ù.
ÀΰøÁö´É ¿Ç³°ú ÇÔ²² Àü ¼¼°èÀûÀ¸·Î ÷´Ü ¹ÝµµÃ¼ ÆÐŰ¡¿¡ ´ëÇÑ ¼ö¿ä°¡ ±ÞÁõÇÏ¸é¼ TSMC, »ï¼ºÀüÀÚ, ÀÎÅÚÀ» ºñ·ÔÇÑ Ä¨ Á¦Á¶¾÷üµéÀÌ »ý»ê ´É·ÂÀ» ´Ã¸®±â À§ÇØ ¹ÚÂ÷¸¦ °¡ÇÏ°í ÀÖ´Ù.
TSMCÀÇ ¿þÀÌÀúÀÚ ÃÖ°í°æ¿µÀÚ´Â Áö³ 1¿ù¿¡ ¿ÃÇØ CoWos »ý»ê·®À» µÎ ¹è·Î ´Ã¸± °èȹÀ̸ç 2025³â¿¡ Ãß°¡ Áõ¼³ÀÌ ¿¹Á¤µÇ¾î ÀÖ´Ù°í ¸»ÇÑ ¹Ù ÀÖ´Ù.
TSMC´Â Áö³´Þ 24ÀÏ ÀϺ» ±¸¸¶¸ðÅä Á¦1°øÀå ÁØ°ø½ÄÀ» ÇÑ °¡¿îµ¥, TSMC´Â ÀϺ» Á¤ºÎÀÇ Àû±ØÀûÀÎ Áö¿ø¿¡ ÈûÀÔ¾î ¿¬³» ±¸¸¶¸ðÅä 2°øÀåµµ Âø°øÇÒ ¿¹Á¤ÀÌ´Ù. ¿©±â¿¡ ÆÐŰ¡ °øÀå±îÁö ½Å¼³µÇ¸é ÀϺ»ÀÇ ¹ÝµµÃ¼ »ê¾÷ ºÎÈ°¿¡ Å« µµ¿òÀÌ µÉ Àü¸ÁÀÌ´Ù.
TSMC´Â ¼Ò´Ï, µµ¿äŸ, µ§¼Ò µî°ú ÇÕÀÛÅõÀÚȸ»ç JASMÀ» ¼³¸³ÇßÀ¸¸ç ÃÑÅõÀÚ¾×Àº 200¾ï´Þ·¯ ÀÌ»óÀÌ µÉ °ÍÀ¸·Î ¿¹»óµÈ´Ù.
ÀϺ»Àº ¿©ÀüÈ÷ ¼±µµÀûÀÎ ¹ÝµµÃ¼ ¼ÒÀç ¹× Àåºñ Á¦Á¶¾÷ü¸¦ °¡Áö°í ÀÖ¾î, ÆÐŰ¡À» Çϱ⿡ ÁÁÀº À§Ä¡¿¡ ÀÖ´Ù.
ÇÏÁö¸¸ Æ®·»µåÆ÷½º Á¶¾Ø Ä¡¾Æ¿À »ê¾÷ºÐ¼®°¡´Â TSMC°¡ ÀϺ»¿¡¼ ÷´Ü ÆÐŰ¡ ¿ª·®À» ±¸ÃàÇÏ´õ¶óµµ ±× ±Ô¸ð°¡ Á¦ÇÑÀûÀÏ °ÍÀ¸·Î ºÃ´Ù.
±×´Â "ÀϺ» ³»¿¡¼ CoWoS ÆÐŰ¡¿¡ ´ëÇÑ ¼ö¿ä°¡ ¾ó¸¶³ª µÉÁö ¾ÆÁ÷ ¸íÈ®ÇÏÁö ¾Ê¾ÒÀ¸¸ç ÇöÀç TSMCÀÇ CoWoS °í°´ ´ëºÎºÐÀº ¹Ì±¹¿¡ ÀÖ´Ù"°í ¸»Çß´Ù.
Áö±Ý±îÁö ÀϺ»¿¡¼ TSMCÀÇ °èȹÀº ÀϺ» Á¤ºÎÀÇ °ü´ëÇÑ º¸Á¶±Ý¿¡ ÈûÀÔ¾î ÃßÁøµÇ°í ÀÖÀ¸¸ç ÀÎÅÚµµ ÆÐŰ¡ ¿¬±¸½Ã¼³À» ÀϺ»¿¡ µÎ´Â °ÍÀ» °ËÅäÇÏ°í ÀÖ´Ù. »ï¼ºÀüÀÚµµ ¿äÄÚÇϸ¶¿¡ ÀϺ» Á¤ºÎ¿¡°Ô¼ 1800¾ï¿øÀ» Áö¿ø¹Þ¾Æ ÆÐŰ¡ ¿¬±¸½Ã¼³À» ¼³¸³ÇÏ°í ÀÖ´Ù.
18ÀÏ(ÇöÁö½Ã°¢) ·ÎÀÌÅÍ´Â µÎ ¼Ò½ÄÅëÀ» ÀοëÇØ ÀÌ·± ¼Ò½ÄÀ» ÀüÇϸç TSMC°¡ ÀϺ»¿¡ CoWoS ÆÐŰ¡ ±â¼ú µµÀÔÀ» ³íÀÇÇÏ°í ÀÖ´Ù°í º¸µµÇß´Ù.
CoWoS(Chip-on-Wafer-on-Substrate) ÆÐŰ¡ ±â¼úÀº ¹ÝµµÃ¼ Á¦Á¶¿¡¼ »ç¿ëµÇ´Â ÷´Ü ±â¼ú·Î ¿©·¯ ĨÀ» ÇϳªÀÇ Å« ±âÆÇ À§¿¡ ½×¾Æ ¿Ã¸®´Â ¹æ½ÄÀÌ´Ù. CoWoS´Â ƯÈ÷ °í¼º´É ÄÄÇ»Æðú ´ë¿ë·® µ¥ÀÌÅÍ ¼¾ÅÍ¿Í °°Àº ¾ÖÇø®ÄÉÀ̼ǿ¡¼ À¯¿ëÇϸç, Ĩ °£ÀÇ ¹°¸®Àû °Å¸®¸¦ ÃÖ¼ÒÈÇØ ´õ ¸¹Àº µ¥ÀÌÅÍ Àü¼Û°ú ³·Àº Àü·Â ¼Òºñ¸¦ °¡´ÉÇÏ°Ô ÇÑ´Ù.
ÀáÀçÀû ÅõÀÚ ±Ô¸ð³ª ÀÏÁ¤Àº ¾ÆÁ÷ °áÁ¤µÇÁö ¾Ê¾Ò´Ù°í ¼Ò½ÄÅëÀÌ ÀüÇÑ °¡¿îµ¥, TSMC´Â °ø½ÄÀûÀÎ ³íÆòÀ» °ÅºÎÇß´Ù.
ÀΰøÁö´É ¿Ç³°ú ÇÔ²² Àü ¼¼°èÀûÀ¸·Î ÷´Ü ¹ÝµµÃ¼ ÆÐŰ¡¿¡ ´ëÇÑ ¼ö¿ä°¡ ±ÞÁõÇÏ¸é¼ TSMC, »ï¼ºÀüÀÚ, ÀÎÅÚÀ» ºñ·ÔÇÑ Ä¨ Á¦Á¶¾÷üµéÀÌ »ý»ê ´É·ÂÀ» ´Ã¸®±â À§ÇØ ¹ÚÂ÷¸¦ °¡ÇÏ°í ÀÖ´Ù.
TSMCÀÇ ¿þÀÌÀúÀÚ ÃÖ°í°æ¿µÀÚ´Â Áö³ 1¿ù¿¡ ¿ÃÇØ CoWos »ý»ê·®À» µÎ ¹è·Î ´Ã¸± °èȹÀ̸ç 2025³â¿¡ Ãß°¡ Áõ¼³ÀÌ ¿¹Á¤µÇ¾î ÀÖ´Ù°í ¸»ÇÑ ¹Ù ÀÖ´Ù.
TSMC´Â Áö³´Þ 24ÀÏ ÀϺ» ±¸¸¶¸ðÅä Á¦1°øÀå ÁØ°ø½ÄÀ» ÇÑ °¡¿îµ¥, TSMC´Â ÀϺ» Á¤ºÎÀÇ Àû±ØÀûÀÎ Áö¿ø¿¡ ÈûÀÔ¾î ¿¬³» ±¸¸¶¸ðÅä 2°øÀåµµ Âø°øÇÒ ¿¹Á¤ÀÌ´Ù. ¿©±â¿¡ ÆÐŰ¡ °øÀå±îÁö ½Å¼³µÇ¸é ÀϺ»ÀÇ ¹ÝµµÃ¼ »ê¾÷ ºÎÈ°¿¡ Å« µµ¿òÀÌ µÉ Àü¸ÁÀÌ´Ù.
TSMC´Â ¼Ò´Ï, µµ¿äŸ, µ§¼Ò µî°ú ÇÕÀÛÅõÀÚȸ»ç JASMÀ» ¼³¸³ÇßÀ¸¸ç ÃÑÅõÀÚ¾×Àº 200¾ï´Þ·¯ ÀÌ»óÀÌ µÉ °ÍÀ¸·Î ¿¹»óµÈ´Ù.
ÀϺ»Àº ¿©ÀüÈ÷ ¼±µµÀûÀÎ ¹ÝµµÃ¼ ¼ÒÀç ¹× Àåºñ Á¦Á¶¾÷ü¸¦ °¡Áö°í ÀÖ¾î, ÆÐŰ¡À» Çϱ⿡ ÁÁÀº À§Ä¡¿¡ ÀÖ´Ù.
ÇÏÁö¸¸ Æ®·»µåÆ÷½º Á¶¾Ø Ä¡¾Æ¿À »ê¾÷ºÐ¼®°¡´Â TSMC°¡ ÀϺ»¿¡¼ ÷´Ü ÆÐŰ¡ ¿ª·®À» ±¸ÃàÇÏ´õ¶óµµ ±× ±Ô¸ð°¡ Á¦ÇÑÀûÀÏ °ÍÀ¸·Î ºÃ´Ù.
±×´Â "ÀϺ» ³»¿¡¼ CoWoS ÆÐŰ¡¿¡ ´ëÇÑ ¼ö¿ä°¡ ¾ó¸¶³ª µÉÁö ¾ÆÁ÷ ¸íÈ®ÇÏÁö ¾Ê¾ÒÀ¸¸ç ÇöÀç TSMCÀÇ CoWoS °í°´ ´ëºÎºÐÀº ¹Ì±¹¿¡ ÀÖ´Ù"°í ¸»Çß´Ù.
Áö±Ý±îÁö ÀϺ»¿¡¼ TSMCÀÇ °èȹÀº ÀϺ» Á¤ºÎÀÇ °ü´ëÇÑ º¸Á¶±Ý¿¡ ÈûÀÔ¾î ÃßÁøµÇ°í ÀÖÀ¸¸ç ÀÎÅÚµµ ÆÐŰ¡ ¿¬±¸½Ã¼³À» ÀϺ»¿¡ µÎ´Â °ÍÀ» °ËÅäÇÏ°í ÀÖ´Ù. »ï¼ºÀüÀÚµµ ¿äÄÚÇϸ¶¿¡ ÀϺ» Á¤ºÎ¿¡°Ô¼ 1800¾ï¿øÀ» Áö¿ø¹Þ¾Æ ÆÐŰ¡ ¿¬±¸½Ã¼³À» ¼³¸³ÇÏ°í ÀÖ´Ù.