¼¼°è ÃÖ´ë ÆÄ¿îµå¸® ±â¾÷ ´ë¸¸ TSMC°¡ 3nm(³ª³ë¹ÌÅÍ) °øÁ¤ ±â¼ú °³¹ßÀ» °¡¼ÓÈ Çϱâ À§ÇØ °í°´»çµé°úÀÇ ±ä¹ÐÇÏ°Ô Çù·ÂÇÏ°Ú´Ù°í ¹àÇû´Ù.
6ÀÏ TSMC Á¤º¸±â¼ú ¹× Àç·Î, À§Çè°ü¸® ´ã´ç ¼ö¼® ºÎ»çÀå J.K. LinÀº °ø±Þ¸Á °ü¸® Æ÷·³¿¡¼ ¡°¼¼°è °æÁ¦°¡ Äڷγª19 ´ëÀ¯ÇàÀ¸·Î ȲÆóȵǾúÁö¸¸ ¿ì¸®´Â °í°´»çµéÀÇ °·ÂÇÑ Áö¿ø ¾Æ·¡ 5nm °øÁ¤°³¹ß¿¡¼ ¼¼°è¸¦ ¼±µµÇÒ ¼ö ÀÖ¾ú´Ù¡±¶ó¸ç ¡°º¸´Ù ¹Ì¼¼ÇÑ 3nm °øÁ¤°³¹ßÀÌ ½ÃÀ۵ʿ¡ µû¶ó Çù·ÂÀ» ´õ¿í °ÈÇÏ°Ú´Ù¡±°í ¸»Çß´Ù.
5nm °øÁ¤Àº 2ºÐ±âºÎÅÍ ¾ç»êÀ» ½ÃÀÛÇØ 3ºÐ±â TSMC ¸ÅÃâÀÇ 8%¸¦ µ¹ÆÄÇßÀ¸¸ç ÇöÀç ŸÀ̳ »ý»êÇöÀå¿¡¼ °³¹ß¿¡ µé¾î°£ 3nm °øÁ¤µµ 2022³â »ó¾÷»ý»ê(¾ç»ê)À» ½ÃÀÛÇÒ ¿¹Á¤À̶ó¸ç °³¹ß ÁßÀÎ 3nm °øÁ¤À» ³Ñ¾î 2nm °øÁ¤ ±â¼úÀ» °³¹ßÇϱâ À§ÇÑ ÁغñÀÛ¾÷µµ ¼µÎ¸£°í ÀÖ´Ù°í µ¡ºÙ¿´´Ù.
Æ÷·³¿¡´Â ¹ÝµµÃ¼ »ý»ê Àåºñ Á¦Á¶¾÷ü, ¿øÀÚÀç »ý»ê¾÷ü, ¹é¿£µå ÁýÀûȸ·Î ÆÐŰ¡ ¹× Å×½ºÆ® ¼ºñ½º Á¦°ø¾÷ü, ȯ°æº¸È£ ¹× Æó±â¹° 󸮾÷ü µî 700¿© °³ÀÇ ¹ÝµµÃ¼¿Í °ü·ÃµÈ °ÅÀÇ ¸ðµç ȸ»ç°¡ Âü¼®ÇÑ °ÍÀ¸·Î ¾Ë·ÁÁ³´Ù.
¸°Àº Àλ縻À» ÅëÇØ °ø±Þ¾÷üÀÇ ³ë·Â°ú Çù·ÂÀÌ TSMC°¡ ±â¼ú ¾÷±×·¹À̵带 Çϴµ¥ µµ¿òÀÌ µÇ¾úÀ» »Ó¸¸ ¾Æ´Ï¶ó ¿¡³ÊÁö Àý¾à, ź¼Ò °¨Ãà ¹× ¿À¿°¹æÁö ´É·ÂÀ» Çâ»ó½ÃÄÑ ±â¾÷ÀÇ Áö¼Ó °¡´É¼º ¸ñÇ¥¸¦ ´Þ¼ºÇÏ°Ú´Ù°í °Á¶Çß´Ù.