세계 최대 파운드리(반도체 수탁생산) 업체인 대만 TSMC가 EUV(극자외선) 마스크용 건식세정기술을 개발했다는 소식이다.
대만 IT 전문 보도 매체 디지타임스는 TSMC가 기존의 습식 세정공정을 대체하는 환경친화적 'EUV 마스크용 건식 세정 기술'을 세계 최초로 개발했다고 주장한 것으로 3일 보도했다.
불량 원인을 분석해 오염원을 제거한 결과 웨이퍼 1만 장당 불량률은 수백 개에서 한 자릿수로 감소해 99%가 줄어들었으며 물과 화학물질 사용도 각각 735톤과 36톤이 절감됐다고 설명했다.
EUV 포토마스크는 펠리클이 있는 것과 없는 2가지 유형으로 펠리클은 마스크 오염으로 발생하는 웨이퍼 불량을 낮출 목적으로 활용하기 위해 마스크 전면에 부착하는 오염방지 부품을 말한다.
TSMC는 광 투과율을 높이고 노출 시 에너지 손실을 줄이기 위해 펠리클이 없는 EUV 마스크를 선택했으며 건식 세정기술에 의해 나노미터 이하 입자의 위치를 정확하게 분석해 제거함으로써 오염을 막아 99% 입자 감소율을 달성했다고 밝혔다.
또한, 건식 세정기술 덕분에 자원 활용 효율이 크게 향상되었다고도 주장했다. 그 결과 EUV 마스크의 사용률은 2018년 도입 당시와 비교해 80% 이상 늘어났으며 고급 공정 EUV 마스크의 수명연장으로 인한 누적 경제효과도 6600만 달러(788억 원)에 달한다고 밝혔다.
TSMC는 지난해 EUV 마스크 건식 세정공정 기술에 자동화를 도입해 올해 1월부터 모든 12인치 웨이퍼 생산라인에 적용하고 있다.
