¼¼°è ÃÖ´ë ÆÄ¿îµå¸® ¾÷üÀÎ ´ë¸¸ÀÇ TSMC°¡ ÷´Ü ÆÐŰ¡(ÈÄ°øÁ¤) °øÀå 2°÷À» ÀÚ±¹¿¡ Ãß°¡·Î ¼³¸³ÇÒ °èȹÀÌ´Ù.
19ÀÏ(ÇöÁö½Ã°¢) µðÁöŸÀÓ½º ¾Æ½Ã¾Æ µî¿¡ µû¸£¸é, Á¤¿øÂù ºÎÇàÁ¤¿øÀåÀº Àü³¯ ÀÚÀÌÇö Á¤ºÎ¿¡¼ ¿Õ¸ÞÀÌÈ °æÁ¦ºÎÀå(Àå°ü), ¿ìÁ¤Áß ±¹°¡°úÇбâ¼úÀ§¿øȸ(NSTC) ÁÖÀÓÀ§¿ø, ¾¥Àü° ³²ºÎ°úÇдÜÁö °ü¸®±¹Àå, ÁÇÂ꼿ì TSMC ½Ã¼³ ¿î¿µ ´ã´ç ºÎÃѰ渮(ºÎ»çÀå °Ý) µîÀÌ Âü¼®ÇÑ TSMC °øÀå ¼³¸³ °ü·Ã ȸÀǸ¦ ¸¶Ä£ ÈÄ ÀÌ°°ÀÌ ¹àÇû´Ù.
Á¤ ºÎÇàÁ¤¿øÀåÀº "ÀÚÀÌÇö ŸÀ̹ٿÀ Áö¿ª ÀÚÀÌ °úÇдÜÁö¿¡ CoWoS °øÁ¤À» ÀÌ¿ëÇÑ Ã¹ ¹ø° ÆÐŰ¡ °øÀåÀÌ µé¾î¼³ °Í"À̶ó¸ç "¸éÀûÀº ¾à 12Çퟸ£·Î ÇâÈÄ 3000~4000¿© °³ÀÇ ÀÏÀÚ¸®°¡ âÃâµÉ °Í"À̶ó°í ¸»Çß´Ù.
CoWoS(Chip-on-Wafer-on-Substrate) ÆÐŰ¡ ±â¼úÀº ¹ÝµµÃ¼ Á¦Á¶¿¡¼ »ç¿ëµÇ´Â ÷´Ü ±â¼ú·Î ¿©·¯ ĨÀ» ÇϳªÀÇ Å« ±âÆÇ À§¿¡ ½×¾Æ ¿Ã¸®´Â ¹æ½ÄÀÌ´Ù. CoWoS´Â ƯÈ÷ °í¼º´É ÄÄÇ»Æðú ´ë¿ë·® µ¥ÀÌÅÍ ¼¾ÅÍ¿Í °°Àº ¾ÖÇø®ÄÉÀ̼ǿ¡¼ À¯¿ëÇϸç, Ĩ °£ÀÇ ¹°¸®Àû °Å¸®¸¦ ÃÖ¼ÒÈÇØ ´õ ¸¹Àº µ¥ÀÌÅÍ Àü¼Û°ú ³·Àº Àü·Â ¼Òºñ¸¦ °¡´ÉÇÏ°Ô ÇÑ´Ù.
TSMC´Â ÇöÀç ´ë¸¸ ³»¿¡ ÆÐŰ¡ °øÀå 5°÷À» ¿î¿µÇÏ°í ÀÖÀ¸¸ç ºÏºÎ ¸Ï¿À¸® Åü·ï Áö¿ª¿¡ 6¹ø° °øÀåÀ» °Ç¼³ÇÒ ¿¹Á¤ÀÌ´Ù. ÇØ´ç °øÀåÀº 2024³â ¸» Âø°øÇØ 2027³â 3ºÐ±â ¾ç»êÀ» ¸ñÇ¥·Î ÇÏ°í ÀÖ´Ù.
ÀΰøÁö´É ¿Ç³°ú ÇÔ²² Àü ¼¼°èÀûÀ¸·Î ÷´Ü ¹ÝµµÃ¼ ÆÐŰ¡¿¡ ´ëÇÑ ¼ö¿ä°¡ ±ÞÁõÇÏ¸é¼ TSMC, »ï¼ºÀüÀÚ, ÀÎÅÚÀ» ºñ·ÔÇÑ Ä¨ Á¦Á¶¾÷üµéÀÌ »ý»ê ´É·ÂÀ» ´Ã¸®±â À§ÇØ ¹ÚÂ÷¸¦ °¡ÇÏ°í ÀÖ´Ù.
TSMCÀÇ ¿þÀÌÀúÀÚ ÃÖ°í°æ¿µÀÚ´Â Áö³ 1¿ù ¿ÃÇØ CoWoS »ý»ê·®À» µÎ ¹è·Î ´Ã¸± °èȹÀ̸ç 2025³â¿¡ Ãß°¡ Áõ¼³ÀÌ ¿¹Á¤µÇ¾î ÀÖ´Ù°í ¸»ÇÑ ¹Ù ÀÖ´Ù. ¶ÇÇÑ ·ÎÀÌÅÍ´Â Áö³ 18ÀÏ ¼Ò½ÄÅëÀ» ÀοëÇØ TSMC´Â ÀϺ»¿¡ CoWoS ÆÐŰ¡ °øÀå ¼³¸³À» °ËÅäÇÏ°í ÀÖ´Ù°í º¸µµÇß´Ù.
19ÀÏ(ÇöÁö½Ã°¢) µðÁöŸÀÓ½º ¾Æ½Ã¾Æ µî¿¡ µû¸£¸é, Á¤¿øÂù ºÎÇàÁ¤¿øÀåÀº Àü³¯ ÀÚÀÌÇö Á¤ºÎ¿¡¼ ¿Õ¸ÞÀÌÈ °æÁ¦ºÎÀå(Àå°ü), ¿ìÁ¤Áß ±¹°¡°úÇбâ¼úÀ§¿øȸ(NSTC) ÁÖÀÓÀ§¿ø, ¾¥Àü° ³²ºÎ°úÇдÜÁö °ü¸®±¹Àå, ÁÇÂ꼿ì TSMC ½Ã¼³ ¿î¿µ ´ã´ç ºÎÃѰ渮(ºÎ»çÀå °Ý) µîÀÌ Âü¼®ÇÑ TSMC °øÀå ¼³¸³ °ü·Ã ȸÀǸ¦ ¸¶Ä£ ÈÄ ÀÌ°°ÀÌ ¹àÇû´Ù.
Á¤ ºÎÇàÁ¤¿øÀåÀº "ÀÚÀÌÇö ŸÀ̹ٿÀ Áö¿ª ÀÚÀÌ °úÇдÜÁö¿¡ CoWoS °øÁ¤À» ÀÌ¿ëÇÑ Ã¹ ¹ø° ÆÐŰ¡ °øÀåÀÌ µé¾î¼³ °Í"À̶ó¸ç "¸éÀûÀº ¾à 12Çퟸ£·Î ÇâÈÄ 3000~4000¿© °³ÀÇ ÀÏÀÚ¸®°¡ âÃâµÉ °Í"À̶ó°í ¸»Çß´Ù.
CoWoS(Chip-on-Wafer-on-Substrate) ÆÐŰ¡ ±â¼úÀº ¹ÝµµÃ¼ Á¦Á¶¿¡¼ »ç¿ëµÇ´Â ÷´Ü ±â¼ú·Î ¿©·¯ ĨÀ» ÇϳªÀÇ Å« ±âÆÇ À§¿¡ ½×¾Æ ¿Ã¸®´Â ¹æ½ÄÀÌ´Ù. CoWoS´Â ƯÈ÷ °í¼º´É ÄÄÇ»Æðú ´ë¿ë·® µ¥ÀÌÅÍ ¼¾ÅÍ¿Í °°Àº ¾ÖÇø®ÄÉÀ̼ǿ¡¼ À¯¿ëÇϸç, Ĩ °£ÀÇ ¹°¸®Àû °Å¸®¸¦ ÃÖ¼ÒÈÇØ ´õ ¸¹Àº µ¥ÀÌÅÍ Àü¼Û°ú ³·Àº Àü·Â ¼Òºñ¸¦ °¡´ÉÇÏ°Ô ÇÑ´Ù.
TSMC´Â ÇöÀç ´ë¸¸ ³»¿¡ ÆÐŰ¡ °øÀå 5°÷À» ¿î¿µÇÏ°í ÀÖÀ¸¸ç ºÏºÎ ¸Ï¿À¸® Åü·ï Áö¿ª¿¡ 6¹ø° °øÀåÀ» °Ç¼³ÇÒ ¿¹Á¤ÀÌ´Ù. ÇØ´ç °øÀåÀº 2024³â ¸» Âø°øÇØ 2027³â 3ºÐ±â ¾ç»êÀ» ¸ñÇ¥·Î ÇÏ°í ÀÖ´Ù.
ÀΰøÁö´É ¿Ç³°ú ÇÔ²² Àü ¼¼°èÀûÀ¸·Î ÷´Ü ¹ÝµµÃ¼ ÆÐŰ¡¿¡ ´ëÇÑ ¼ö¿ä°¡ ±ÞÁõÇÏ¸é¼ TSMC, »ï¼ºÀüÀÚ, ÀÎÅÚÀ» ºñ·ÔÇÑ Ä¨ Á¦Á¶¾÷üµéÀÌ »ý»ê ´É·ÂÀ» ´Ã¸®±â À§ÇØ ¹ÚÂ÷¸¦ °¡ÇÏ°í ÀÖ´Ù.
TSMCÀÇ ¿þÀÌÀúÀÚ ÃÖ°í°æ¿µÀÚ´Â Áö³ 1¿ù ¿ÃÇØ CoWoS »ý»ê·®À» µÎ ¹è·Î ´Ã¸± °èȹÀ̸ç 2025³â¿¡ Ãß°¡ Áõ¼³ÀÌ ¿¹Á¤µÇ¾î ÀÖ´Ù°í ¸»ÇÑ ¹Ù ÀÖ´Ù. ¶ÇÇÑ ·ÎÀÌÅÍ´Â Áö³ 18ÀÏ ¼Ò½ÄÅëÀ» ÀοëÇØ TSMC´Â ÀϺ»¿¡ CoWoS ÆÐŰ¡ °øÀå ¼³¸³À» °ËÅäÇÏ°í ÀÖ´Ù°í º¸µµÇß´Ù.